Disco de tungsteno de tungsteno puro ao 99,95 % para a industria
O material diana de tungsteno é un material metálico de alta pureza crucial en industrias como a de semicondutores, paneis de visualización e células solares. Úsase principalmente en procesos de deposición física de vapor, especialmente en tecnoloxía de pulverización catódica con magnetrón, para formar películas condutoras ou funcionais extremadamente delgadas.
| Dimensións | Como o seu requisito |
| Lugar de orixe | Luoyang, Henan |
| Nome da marca | FGD |
| Aplicación | Médico, Industria, Semicondutores |
| Forma | Ronda |
| Superficie | Pulido |
| Pureza | 99,95% |
| Grao | W1 |
| Densidade | 19,3 g/cm³ |
| Punto de fusión | 3420 ℃ |
| Punto de ebulición | 5555 ℃ |
| Compoñentes principais | W > 99,95% |
| Contido de impurezas ≤ | |
| Pb | 0,0005 |
| Fe | 0,0020 |
| S | 0,0050 |
| P | 0,0005 |
| C | 0,01 |
| Cr | 0,0010 |
| Al | 0,0015 |
| Cu | 0,0015 |
| K | 0,0080 |
| N | 0,003 |
| Sn | 0,0015 |
| Si | 0,0020 |
| Ca | 0,0015 |
| Na | 0,0020 |
| O | 0,008 |
| Ti | 0,0010 |
| Mg | 0,0010 |
| Diámetro | φ25,4 mm | φ50 mm | φ50,8 mm | φ60 mm | φ76,2 mm | φ80,0 mm | φ101,6 mm | φ100 mm |
| Espesor | 3 mm | 4 mm | 5 mm | 6 mm | 6.35 |
1. A nosa fábrica está situada na cidade de Luoyang, provincia de Henan. Luoyang é unha zona de produción de minas de volframio e molibdeno, polo que temos vantaxes absolutas en calidade e prezo;
2. A nosa empresa conta con persoal técnico con máis de 15 anos de experiencia e ofrecemos solucións e suxestións específicas para as necesidades de cada cliente.
3. Todos os nosos produtos son sometidos a unha rigorosa inspección de calidade antes de seren exportados.
4. Se recibes mercadorías defectuosas, podes contactar connosco para obter un reembolso.
1.Método de metalurxia de po
(Prema o po de volframio para darlle forma e logo sinteríceo a alta temperatura nunha atmosfera de hidróxeno)
2. Preparación dos materiais obxectivo de pulverización catódica
(Deposición de material de volframio sobre un substrato para formar unha película fina)
3. prensado isostático en quente
(Tratamento de densificación de material de volframio mediante a aplicación simultánea de alta temperatura e alta presión)
4. Método de fusión
(Use alta temperatura para fundir completamente o volframio e, a continuación, fabrique os materiais obxectivo mediante fundición ou outros procesos de conformado)
5. Deposición química de vapor
(Método de descomposición de precursores gasosos a alta temperatura e depósito de volframio sobre substrato)
En todas as descricións, os obxectivos de tungsteno son esenciais para a deposición de películas finas de alta tecnoloxía, incluíndo:
Semicondutores e microelectrónica:Creación de capas condutoras, barreiras de difusión e interconexións en circuítos integrados (VLSI).
Pantallas planas:Fabricación de pantallas TFT-LCD para televisores e monitores de alta definición.
Enerxía solar:Usado en células solares de película fina.
Enxeñaría de superficies e revestimentos decorativos:Para ferramentas, luces de automóbiles e vidro arquitectónico.
Médico e industrial:Compoñentes de tubos de raios X e aplicacións xerais de revestimento por pulverización catódica.
O molibdeno úsase a miúdo como material diana en mamografía debido ás súas propiedades favorables para a obtención de imaxes do tecido mamario. O molibdeno ten un número atómico relativamente baixo, o que significa que os raios X que produce son ideais para obter imaxes de tecidos brandos como o peito. O molibdeno produce raios X característicos a niveis de enerxía máis baixos, o que os fai ideais para observar diferenzas sutís na densidade do tecido mamario.
Ademais, o molibdeno ten boas propiedades de condutividade térmica, o que é importante nos equipos de mamografía onde son habituais as exposicións repetidas a raios X. A capacidade de disipar eficazmente a calor axuda a manter a estabilidade e o rendemento dos tubos de raios X durante períodos de uso prolongados.
En xeral, o uso de molibdeno como material diana na mamografía axuda a optimizar a calidade das imaxes de mama ao proporcionar propiedades de raios X axeitadas para esta aplicación específica.
Alta fraxilidade: os materiais obxectivo de tungsteno teñen unha alta fraxilidade e son susceptibles a impactos e vibracións, o que pode causar danos.
Alto custo de fabricación: o custo de fabricación do material obxectivo de tungsteno é relativamente alto porque o seu proceso de produción require unha serie de procedementos complexos e equipos de procesamento de alta precisión.
Dificultade de soldadura: Soldar materiais obxectivo de tungsteno é relativamente difícil e require procesos e técnicas de soldadura especiais para garantir a integridade da súa estrutura e rendemento.
Alto coeficiente de expansión térmica: o material obxectivo de tungsteno ten un alto coeficiente de expansión térmica, polo que cando se usa en ambientes de alta temperatura, débese prestar atención aos seus cambios de tamaño e á influencia da tensión térmica.









