उद्योग के लिए 99.95% शुद्ध टंगस्टन से बनी टंगस्टन डिस्क।

संक्षिप्त वर्णन:

टंगस्टन टारगेट (जिसे अक्सर टंगस्टन स्पटरिंग टारगेट कहा जाता है) टंगस्टन धातु का एक उच्च-शुद्धता वाला टुकड़ा होता है जिसका उपयोग स्पटरिंग नामक प्रक्रिया में सिलिकॉन वेफर्स या कांच जैसी सामग्रियों पर अत्यंत पतली, उच्च-प्रदर्शन वाली फिल्में बनाने के लिए किया जाता है।


उत्पाद विवरण

उत्पाद टैग

उत्पाद विवरण

टंगस्टन एक महत्वपूर्ण उच्च-शुद्धता वाली धातु सामग्री है जिसका उपयोग सेमीकंडक्टर, डिस्प्ले पैनल और सौर सेल जैसे उद्योगों में किया जाता है। इसका मुख्य उपयोग भौतिक वाष्प निक्षेपण प्रक्रियाओं, विशेष रूप से मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग तकनीक में, अत्यंत पतली चालक या कार्यात्मक फिल्मों के निर्माण के लिए किया जाता है।

उत्पाद विनिर्देश

 

DIMENSIONS आपकी आवश्यकता के अनुसार
उत्पत्ति का स्थान लुओयांग, हेनान
ब्रांड का नाम एफजीडी
आवेदन चिकित्सा, उद्योग, अर्धचालक
आकार गोल
सतह पॉलिश
पवित्रता 99.95%
श्रेणी W1
घनत्व 19.3 ग्राम/सेमी3
गलनांक 3420℃
क्वथनांक 5555℃
टंगस्टन लक्ष्य (2)

रासायनिक संरचना

मुख्य घटक

डब्ल्यू>99.95%

अशुद्धता मात्रा≤

Pb

0.0005

Fe

0.0020

S

0.0050

P

0.0005

C

0.01

Cr

0.0010

Al

0.0015

Cu

0.0015

K

0.0080

N

0.003

Sn

0.0015

Si

0.0020

Ca

0.0015

Na

0.0020

O

0.008

Ti

0.0010

Mg

0.0010

सामान्य विशिष्टताएँ

व्यास

φ25.4 मिमी φ50 मिमी φ50.8 मिमी φ60 मिमी φ76.2 मिमी φ80.0 मिमी φ101.6 मिमी φ100 मिमी
मोटाई 3 मिमी 4 मिमी 5 मिमी 6 मिमी 6.35    

हमें क्यों चुनें

1. हमारा कारखाना हेनान प्रांत के लुओयांग शहर में स्थित है। लुओयांग टंगस्टन और मोलिब्डेनम खानों का उत्पादन क्षेत्र है, इसलिए गुणवत्ता और कीमत के मामले में हमें पूर्ण लाभ प्राप्त हैं;

2. हमारी कंपनी में 15 वर्षों से अधिक के अनुभव वाले तकनीकी कर्मचारी हैं, और हम प्रत्येक ग्राहक की आवश्यकताओं के लिए लक्षित समाधान और सुझाव प्रदान करते हैं।

3. हमारे सभी उत्पादों को निर्यात करने से पहले सख्त गुणवत्ता निरीक्षण से गुजरना पड़ता है।

4. यदि आपको दोषपूर्ण सामान प्राप्त होता है, तो आप धनवापसी के लिए हमसे संपर्क कर सकते हैं।

टंगस्टन लक्ष्य (3)

उत्पादन प्रवाह

1.पाउडर धातुकर्म विधि

(टंगस्टन पाउडर को आकार में दबाकर फिर हाइड्रोजन वातावरण में उच्च तापमान पर सिंटर करें)

2. स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री की तैयारी

(पतली परत बनाने के लिए सब्सट्रेट पर टंगस्टन सामग्री का निक्षेपण)

3. हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग

(उच्च तापमान और उच्च दबाव को एक साथ लागू करके टंगस्टन सामग्री का सघनता उपचार)

4. पिघलने की विधि

(उच्च तापमान का उपयोग करके टंगस्टन को पूरी तरह से पिघलाएं, और फिर ढलाई या अन्य निर्माण प्रक्रियाओं के माध्यम से लक्षित सामग्री बनाएं)

5. रासायनिक वाष्प निक्षेपण

(उच्च तापमान पर गैसीय अग्रदूत को विघटित करने और सब्सट्रेट पर टंगस्टन जमा करने की विधि)

आवेदन

सभी प्रकार की तकनीकों में, टंगस्टन लक्ष्य उच्च-तकनीकी पतली-फिल्म जमाव के लिए आवश्यक हैं, जिनमें शामिल हैं:

सेमीकंडक्टर और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स:एकीकृत परिपथों (VLSI) में प्रवाहकीय परतें, प्रसार अवरोधक और अंतर्संबद्ध संरचनाएं बनाना।

 

फ्लैट पैनल डिस्प्ले:हाई-डेफिनिशन टीवी और मॉनिटर के लिए टीएफटी-एलसीडी स्क्रीन का निर्माण।

 

सौर ऊर्जा:पतली परत वाली सौर कोशिकाओं में उपयोग किया जाता है।

 

सतह इंजीनियरिंग और सजावटी कोटिंग्स:औजारों, ऑटोमोबाइल लाइटों और वास्तुशिल्पीय कांच के लिए।

 

चिकित्सा एवं औद्योगिक:एक्स-रे ट्यूब के घटक और सामान्य स्पटर कोटिंग अनुप्रयोग।

टंगस्टन लक्ष्य

प्रमाण पत्र

उत्तर 1
उत्तर 2

शिपिंग आरेख

32
22
टंगस्टन लक्ष्य (5)
23

सामान्य प्रश्नोत्तर

टंगस्टन लक्ष्य सामग्री के मुख्य लाभ क्या हैं?

स्तन के ऊतकों की इमेजिंग के लिए अनुकूल गुणों के कारण मोलिब्डेनम का उपयोग अक्सर मैमोग्राफी में लक्ष्य सामग्री के रूप में किया जाता है। मोलिब्डेनम का परमाणु क्रमांक अपेक्षाकृत कम होता है, जिसका अर्थ है कि इससे उत्पन्न एक्स-रे स्तन जैसे कोमल ऊतकों की इमेजिंग के लिए आदर्श होते हैं। मोलिब्डेनम कम ऊर्जा स्तर पर विशिष्ट एक्स-रे उत्पन्न करता है, जो स्तन के ऊतकों के घनत्व में सूक्ष्म अंतरों को देखने के लिए आदर्श होते हैं।

इसके अलावा, मोलिब्डेनम में अच्छी तापीय चालकता होती है, जो मैमोग्राफी उपकरणों के लिए महत्वपूर्ण है जहां बार-बार एक्स-रे का उपयोग होता है। ऊष्मा को प्रभावी ढंग से फैलाने की क्षमता लंबे समय तक उपयोग के दौरान एक्स-रे ट्यूबों की स्थिरता और कार्यक्षमता बनाए रखने में सहायक होती है।

कुल मिलाकर, मैमोग्राफी में लक्ष्य सामग्री के रूप में मोलिब्डेनम का उपयोग इस विशिष्ट अनुप्रयोग के लिए उपयुक्त एक्स-रे गुण प्रदान करके स्तन इमेजिंग की गुणवत्ता को अनुकूलित करने में मदद करता है।

टंगस्टन लक्ष्य सामग्री के क्या नुकसान हैं?

अत्यधिक भंगुरता: टंगस्टन की लक्षित सामग्री अत्यधिक भंगुर होती है और प्रभाव और कंपन के प्रति संवेदनशील होती है, जिससे क्षति हो सकती है।
उच्च उत्पादन लागत: टंगस्टन लक्ष्य सामग्री की उत्पादन लागत अपेक्षाकृत अधिक होती है क्योंकि इसकी उत्पादन प्रक्रिया में जटिल प्रक्रियाओं की एक श्रृंखला और उच्च परिशुद्धता प्रसंस्करण उपकरणों की आवश्यकता होती है।
वेल्डिंग की कठिनाई: टंगस्टन जैसी लक्षित सामग्रियों की वेल्डिंग अपेक्षाकृत कठिन होती है और उनकी संरचना और प्रदर्शन की अखंडता सुनिश्चित करने के लिए विशेष वेल्डिंग प्रक्रियाओं और तकनीकों की आवश्यकता होती है।
उच्च तापीय प्रसार गुणांक: टंगस्टन सामग्री का तापीय प्रसार गुणांक उच्च होता है, इसलिए उच्च तापमान वाले वातावरण में उपयोग करते समय इसके आकार में होने वाले परिवर्तनों और तापीय तनाव के प्रभाव पर ध्यान देना चाहिए।


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