Tungstenkumparan penguapan

Kemurnian: W ≥ 99,95%

Kondisi permukaan : Pembersihan kimia atau pemolesan elektrolitik.

Titik leleh : 3420 ± 20 ℃

Ukuran : sesuai gambar yang tersedia.

Tipe : Lurus, bentuk U, bentuk V, Keranjang.Helical.

Aplikasi :Pemanas kawat tungsten terutama digunakan untuk elemen pemanas seperti tabung gambar, cermin, plastik, substrat logam, ABS, PP dan bahan plastik lainnya pada permukaan berbagai benda dekoratif.Kawat tungsten terutama digunakan sebagai bahan baku pemanas.

prinsip kerja ：Tungsten mempunyai titik leleh yang tinggi, resistivitas listrik yang tinggi, kekuatan yang baik dan tekanan uap yang rendah, sehingga cocok digunakan sebagai pemanas.Membran ditempatkan pada pemanas di ruang vakum, dan dipanaskan dalam kondisi vakum tinggi dengan pemanas (pemanas tungsten) hingga menguap.Ketika jalur bebas rata-rata molekul uap lebih besar dari ukuran linier ruang vakum, atom-atom uap Setelah molekul keluar dari permukaan sumber penguapan, mereka jarang dipengaruhi atau dihalangi oleh molekul atau atom lain, dan dapat langsung mencapai permukaan substrat yang akan dilapisi.Karena suhu substrat yang lebih rendah, film terbentuk melalui kondensasi.

Evaporasi termal (evaporasi resistensi) adalah metode pelapisan yang digunakan sebagai bagian dari proses PVD (Physical Vapor Deposition).Bahan yang akan membentuk lapisan selanjutnya dipanaskan dalam ruang vakum hingga menguap.Uap yang dibentuk oleh material mengembun pada substrat dan membentuk lapisan yang diperlukan.

Kitakumparan penguapantahu cara menaikkan panas: Pemanas resistansi dengan titik lelehnya yang sangat tinggi ini akan membuat hampir semua logam mendidih.Pada saat yang sama, ketahanan terhadap korosi yang tinggi dan kemurnian material yang luar biasa mencegah kontaminasi pada substrat.