cakera tungsten sasaran 99.95% tulen untuk industri
Bahan sasaran tungsten merupakan bahan logam berketulenan tinggi yang penting dalam industri seperti semikonduktor, panel paparan dan sel suria. Ia digunakan terutamanya dalam proses pemendapan wap fizikal, terutamanya teknologi percikan magnetron, untuk membentuk filem konduktif atau berfungsi yang sangat nipis.
| Dimensi | Sebagai keperluan anda |
| Tempat Asal | Luoyang,Henan |
| Nama Jenama | FGD |
| Permohonan | Perubatan, Industri, semikonduktor |
| Bentuk | Bulat |
| Permukaan | Digilap |
| Ketulenan | 99.95% |
| Gred | W1 |
| Ketumpatan | 19.3g/cm3 |
| Takat lebur | 3420℃ |
| Takat didih | 5555℃ |
| Komponen utama | W>99.95% |
| Kandungan bendasing≤ | |
| Pb | 0.0005 |
| Fe | 0.0020 |
| S | 0.0050 |
| P | 0.0005 |
| C | 0.01 |
| Cr | 0.0010 |
| Al | 0.0015 |
| Cu | 0.0015 |
| K | 0.0080 |
| N | 0.003 |
| Sn | 0.0015 |
| Si | 0.0020 |
| Ca | 0.0015 |
| Na | 0.0020 |
| O | 0.008 |
| Ti | 0.0010 |
| Mg | 0.0010 |
| Diameter | φ25.4mm | φ50mm | φ50.8mm | φ60mm | φ76.2mm | φ80.0mm | φ101.6mm | φ100mm |
| Ketebalan | 3mm | 4mm | 5mm | 6mm | 6.35 |
1. Kilang kami terletak di Bandar Luoyang, Wilayah Henan. Luoyang merupakan kawasan pengeluaran untuk lombong tungsten dan molibdenum, jadi kami mempunyai kelebihan mutlak dari segi kualiti dan harga;
2. Syarikat kami mempunyai kakitangan teknikal dengan pengalaman lebih 15 tahun, dan kami menyediakan penyelesaian dan cadangan yang disasarkan untuk keperluan setiap pelanggan.
3. Semua produk kami menjalani pemeriksaan kualiti yang ketat sebelum dieksport.
4. Jika anda menerima barang yang rosak, anda boleh menghubungi kami untuk mendapatkan bayaran balik.
1.Kaedah metalurgi serbuk
(Tekan serbuk tungsten sehingga terbentuk dan kemudian sinterkannya pada suhu tinggi dalam atmosfera hidrogen)
2. Penyediaan Bahan Sasaran Percikan
(Pemendapan bahan tungsten ke atas substrat untuk membentuk filem nipis)
3. penekanan isostatik panas
(Rawatan penumpatan bahan tungsten dengan menggunakan suhu tinggi dan tekanan tinggi secara serentak)
4. Kaedah peleburan
(Gunakan suhu tinggi untuk mencairkan sepenuhnya tungsten, dan kemudian buat bahan sasaran melalui proses tuangan atau pembentukan lain)
5. Pemendapan wap kimia
(Kaedah penguraian prekursor gas pada suhu tinggi dan pengendapan tungsten pada substrat)
Merentasi semua penerangan, sasaran tungsten adalah penting untuk pemendapan filem nipis berteknologi tinggi, termasuk:
Semikonduktor & Mikroelektronik:Mewujudkan lapisan konduktif, penghalang resapan dan sambungan dalam litar bersepadu (VLSI).
Paparan Panel Rata:Pembuatan skrin TFT-LCD untuk TV dan monitor definisi tinggi.
Tenaga Suria:Digunakan dalam sel solar filem nipis.
Kejuruteraan Permukaan & Salutan Hiasan:Untuk alatan, lampu automotif dan kaca seni bina.
Perubatan & Perindustrian:Komponen tiub sinar-X dan aplikasi salutan percikan umum.
Molibdenum sering digunakan sebagai bahan sasaran dalam mamografi kerana sifatnya yang baik untuk pengimejan tisu payudara. Molibdenum mempunyai nombor atom yang agak rendah, yang bermaksud sinar-X yang dihasilkannya sesuai untuk pengimejan tisu lembut seperti payudara. Molibdenum menghasilkan sinar-X yang khas pada tahap tenaga yang lebih rendah, menjadikannya sesuai untuk memerhatikan perbezaan halus dalam ketumpatan tisu payudara.
Di samping itu, molibdenum mempunyai sifat kekonduksian terma yang baik, yang penting dalam peralatan mamografi di mana pendedahan sinar-X berulang adalah perkara biasa. Keupayaan untuk menghilangkan haba secara berkesan membantu mengekalkan kestabilan dan prestasi tiub sinar-X dalam tempoh penggunaan yang berpanjangan.
Secara keseluruhannya, penggunaan molibdenum sebagai bahan sasaran dalam mamografi membantu mengoptimumkan kualiti pengimejan payudara dengan menyediakan sifat sinar-X yang sesuai untuk aplikasi khusus ini.
Kerapuhan tinggi: Bahan sasaran tungsten mempunyai kerapuhan yang tinggi dan mudah terdedah kepada hentaman dan getaran, yang boleh menyebabkan kerosakan.
Kos pengeluaran yang tinggi: Kos pengeluaran bahan sasaran tungsten agak tinggi kerana proses pengeluarannya memerlukan satu siri prosedur yang kompleks dan peralatan pemprosesan yang berketepatan tinggi.
Kesukaran kimpalan: Kimpalan bahan sasaran tungsten agak sukar dan memerlukan proses dan teknik kimpalan khas untuk memastikan integriti struktur dan prestasinya.
Pekali pengembangan haba yang tinggi: Bahan sasaran tungsten mempunyai pekali pengembangan haba yang tinggi, jadi apabila digunakan dalam persekitaran suhu tinggi, perhatian harus diberikan kepada perubahan saiznya dan pengaruh tekanan haba.









