D'Wëssenschaftler vun der Rice University hunn eng Solid-State Memory-Technologie erstallt, déi d'High-Density Storage mat enger minimaler Heefegkeet vu Computerfehler erlaabt.

D'Erënnerungen baséieren opTantaloxid, e gemeinsame Isolator an der Elektronik.Spannung op e 250-nanometer-décke Sandwich vu Graphen, Tantal, nanoporös ugewannttantalOxid a Platin kreéiert adresséierbar Bits wou d'Schichten sech treffen.Kontrollspannungen, déi Sauerstoffionen a Vakanzen verréckelen, schalten d'Bits tëscht Een an Nullen.

D'Entdeckung vum Rice Labo vum Chemiker James Tour kéint Crossbar Array Erënnerungen erlaben, déi bis zu 162 Gigabits späicheren, vill méi héich wéi aner Oxid-baséiert Gedächtnissystemer ënner Ënnersich vu Wëssenschaftler.(Aacht Bits entsprécht engem Byte; eng 162-Gigabit Eenheet wäert ongeféier 20 Gigabyte vun Informatioun späicheren.)

Detailer erschéngen online am American Chemical Society JournalNano Bréiwer.

Wéi déi fréier Entdeckung vum Tour Labo vu Siliziumoxid Erënnerungen, erfuerderen déi nei Apparater nëmmen zwou Elektroden pro Circuit, wat se méi einfach mécht wéi haut Flash Erënnerungen déi dräi benotzen."Awer dëst ass en neie Wee fir ultradicht, netflüchteg Computerspeicher ze maachen," sot Tour.

Nonvolatile Erënnerungen halen hir Donnéeën och wann d'Kraaft aus ass, am Géigesaz zu liichtflüchtege Random-Access Computer Erënnerungen déi hiren Inhalt verléieren wann d'Maschinn ausgeschalt ass.

Modern Memory Chips hu vill Ufuerderungen: Si mussen Daten mat héijer Geschwindegkeet liesen a schreiwen an esou vill wéi méiglech halen.Si mussen och haltbar sinn a gutt Retention vun dësen Donnéeën weisen wärend se minimal Kraaft benotzen.

Tour sot Rice neien Design, déi verlaangt 100 Mol manner Energie wéi presentéieren Apparater, huet d'Potenzial all d'Mark ze Hit.

"DësttantalD'Erënnerung baséiert op zwee-Terminal Systemer, also ass et alles fir 3-D Memory Stacks ageriicht, "sot hien."An et brauch net emol Dioden oder Selektor, sou datt et ee vun den einfachsten ultradense Erënnerungen mécht fir ze konstruéieren.Dëst wäert e richtege Konkurrent fir déi wuessend Gedächtnisfuerderungen an High-Definition Videospeicher a Serverarrays sinn.

D'Schichtstruktur besteet aus Tantal, nanoporösen Tantaloxid a Multi-Layer Graphen tëscht zwou Platinelektroden.Bei der Fabrikatioun vum Material hunn d'Fuerscher festgestallt datt d'Tantaloxid lues a lues Sauerstoffionen verléiert, vun engem sauerstoffräichen, nanoporösen Hallefleiter uewen op Sauerstoffarm um Enn.Wou de Sauerstoff komplett verschwënnt, gëtt et pure Tantal, e Metall.