Rays Universitetinin alimləri minimum kompüter xətaları ilə yüksək sıxlıqlı yaddaşa imkan verən bərk cisim yaddaş texnologiyası yaradıblar.

Xatirələr əsaslanırtantal oksidi, elektronikada ümumi izolyator.250 nanometr qalınlığında qrafen, tantal, nanoməsaməli sendviçə gərginliyin tətbiqitantaloksid və platin təbəqələrin qovuşduğu yerlərdə ünvanlı bitlər yaradır.Oksigen ionlarını və boş yerləri dəyişdirən nəzarət gərginlikləri bitləri birlər və sıfırlar arasında dəyişir.

Kimyaçı Ceyms Turun Rays laboratoriyası tərəfindən kəşf, elm adamları tərəfindən araşdırılan digər oksid əsaslı yaddaş sistemlərindən çox daha yüksək olan 162 giqabitə qədər saxlayan çarpaz çubuqlu yaddaşlara imkan verə bilər.(Səkkiz bit bir bayta bərabərdir; 162 giqabitlik vahid təxminən 20 giqabayt məlumat saxlayacaq.)

Təfərrüatlar American Chemical Society jurnalında onlayn görünürNano hərflər.

Tur laboratoriyasının əvvəlki silisium oksidi yaddaşı kəşfi kimi, yeni qurğular hər dövrə üçün yalnız iki elektrod tələb edir ki, bu da onları üç istifadə edən müasir flaş yaddaşlardan daha sadə edir."Ancaq bu, ultra sıx, uçucu olmayan kompüter yaddaşı yaratmaq üçün yeni bir yoldur" dedi Tur.

Qeyri-sabit yaddaşlar, maşın söndürüldükdə məzmununu itirən uçucu təsadüfi giriş kompüter yaddaşlarından fərqli olaraq, enerji söndürüldükdə belə öz məlumatlarını saxlayır.

Müasir yaddaş çiplərinin bir çox tələbləri var: Onlar məlumatları yüksək sürətlə oxuyub yazmalı və mümkün qədər çox saxlamalıdırlar.Onlar həmçinin davamlı olmalı və minimum gücdən istifadə edərkən həmin məlumatların yaxşı saxlanmasını göstərməlidirlər.

Tur indiki cihazlardan 100 dəfə az enerji tələb edən Raysın yeni dizaynının bütün işarələri vurmaq potensialına malik olduğunu söylədi.

“Butantalyaddaş iki terminallı sistemlərə əsaslanır, ona görə də hər şey 3 ölçülü yaddaş yığınları üçün hazırlanıb”.“Və onun diodlara və ya seçicilərə belə ehtiyacı yoxdur, bu da onu qurmaq üçün ən asan ultra sıx yaddaşlardan birinə çevirir.Bu, yüksək dəqiqlikli video saxlama və server massivlərində artan yaddaş tələbləri üçün əsl rəqib olacaq”.

Laylı struktur tantal, nanoməsaməli tantal oksidi və iki platin elektrod arasında çox qatlı qrafendən ibarətdir.Materialı hazırlayarkən tədqiqatçılar tapdılar ki, tantal oksidi tədricən oksigen ionlarını itirir və yuxarıdakı oksigenlə zəngin, nanoməsaməli yarımkeçiricidən aşağıdakı oksigensizliyə çevrilir.Oksigen tamamilə yox olan yerdə saf tantala, metala çevrilir.