ວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍ Molybdenum ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນພາກສະຫນາມ semiconductor
1. ຄວາມບໍລິສຸດຂອງຝຸ່ນ molybdenum ແມ່ນຫຼາຍກ່ວາຫຼືເທົ່າກັບ 99.95%.ການປິ່ນປົວຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງຝຸ່ນ molybdenum ໄດ້ຖືກປະຕິບັດໂດຍໃຊ້ຂະບວນການ sintering ກົດຮ້ອນ, ແລະຝຸ່ນ molybdenum ໄດ້ຖືກວາງໄວ້ໃນ mold;ຫຼັງຈາກວາງ mold ເຂົ້າໄປໃນ furnace sintering ກົດຮ້ອນ, ສູນຍາກາດໃນ furnace sintering ກົດຮ້ອນ;ປັບອຸນຫະພູມຂອງ furnace sintering ກົດຮ້ອນເປັນ 1200-1500 ℃, ມີຄວາມກົດດັນຫຼາຍກ່ວາ 20MPa, ແລະຮັກສາ insulation ແລະຄວາມກົດດັນສໍາລັບການ 2-5 ຊົ່ວໂມງ;ປະກອບເປັນ billet ເປົ້າຫມາຍ molybdenum ທໍາອິດ;
2. ປະຕິບັດການປິ່ນປົວມ້ວນຮ້ອນໃນ billet ເປົ້າຫມາຍ molybdenum ທໍາອິດ, ໃຫ້ຄວາມຮ້ອນຂອງ billet ເປົ້າຫມາຍ molybdenum ທໍາອິດທີ່ 1200-1500 ℃, ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນປະຕິບັດການປິ່ນປົວມ້ວນເພື່ອປະກອບເປັນ billet ເປົ້າຫມາຍ molybdenum ທີສອງ;
3. ຫຼັງຈາກການປິ່ນປົວມ້ວນຮ້ອນ, ວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍ molybdenum ທີສອງແມ່ນ annealed ໂດຍການປັບອຸນຫະພູມໃຫ້ 800-1200 ℃ແລະຖືມັນສໍາລັບ 2-5 ຊົ່ວໂມງເພື່ອປະກອບເປັນ molyb.ອຸປະກອນການເປົ້າຫມາຍ denum.
ເປົ້າໝາຍໂມລີບເດັນສາມາດປະກອບເປັນຮູບເງົາບາງໆຢູ່ເທິງຊັ້ນຍ່ອຍຕ່າງໆ ແລະຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອົງປະກອບ ແລະຜະລິດຕະພັນອີເລັກໂທຣນິກ.
ປະສິດທິພາບຂອງວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍ Molybdenum Sputtered
ການປະຕິບັດຂອງອຸປະກອນເປົ້າຫມາຍຂອງ molybdenum sputtering ແມ່ນຄືກັນກັບຂອງວັດສະດຸແຫຼ່ງຂອງມັນ (ໂລຫະປະສົມ molybdenum ບໍລິສຸດຫຼື molybdenum).Molybdenum ແມ່ນອົງປະກອບໂລຫະທີ່ຖືກນໍາໃຊ້ຕົ້ນຕໍສໍາລັບເຫຼັກກ້າ.ຫຼັງຈາກ molybdenum oxide ອຸດສາຫະກໍາຖືກກົດດັນ, ສ່ວນຫຼາຍແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ໂດຍກົງສໍາລັບການເຮັດເຫຼັກກ້າຫຼືທາດເຫຼັກສຽງໂຫວດທັງຫມົດ.molybdenum ຈໍານວນນ້ອຍຖືກນໍາໄປຫລອມເປັນເຫລໍກ molybdenum ຫຼື molybdenum foil ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນນໍາໃຊ້ສໍາລັບການເຮັດເຫຼັກກ້າ.ມັນສາມາດປັບປຸງຄວາມເຂັ້ມແຂງ, ຄວາມແຂງ, weldability, toughness, ເຊັ່ນດຽວກັນກັບອຸນຫະພູມສູງແລະຄວາມທົນທານຕໍ່ corrosion ຂອງໂລຫະ.
ການນຳໃຊ້ວັດສະດຸເປົ້າໝາຍ Molybdenum Sputtering ໃນຈໍສະແດງຜົນແບບຮາບພຽງ
ໃນອຸດສາຫະກໍາເອເລັກໂຕຣນິກ, ການນໍາໃຊ້ເປົ້າຫມາຍຂອງ molybdenum sputtering ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນສຸມໃສ່ການສະແດງກະດານຮາບພຽງ, electrodes ຈຸລັງແສງຕາເວັນບາງແລະອຸປະກອນສາຍ, ເຊັ່ນດຽວກັນກັບວັດສະດຸຊັ້ນອຸປະສັກ semiconductor.ວັດສະດຸເຫຼົ່ານີ້ແມ່ນອີງໃສ່ຈຸດ melting ສູງ, conductivity ສູງ, ແລະຕ່ໍາ molybdenum impedance ສະເພາະ, ມີຄວາມຕ້ານທານ corrosion ທີ່ດີແລະປະສິດທິພາບສິ່ງແວດລ້ອມ.Molybdenum ມີຄວາມໄດ້ປຽບພຽງແຕ່ເຄິ່ງຫນຶ່ງຂອງ impedance ສະເພາະແລະຄວາມກົດດັນຮູບເງົາຂອງ chromium, ແລະບໍ່ມີບັນຫາມົນລະພິດສິ່ງແວດລ້ອມ, ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນຫນຶ່ງໃນອຸປະກອນທີ່ຕ້ອງການສໍາລັບການ sputtering ເປົ້າຫມາຍໃນຈໍສະແດງຜົນຮາບພຽງ.ນອກຈາກນັ້ນ, ການເພີ່ມອົງປະກອບ molybdenum ກັບອົງປະກອບຂອງ LCD ສາມາດປັບປຸງຄວາມສະຫວ່າງ, ກົງກັນຂ້າມ, ສີ, ແລະອາຍຸຂອງ LCD ໄດ້ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ.
ການນໍາໃຊ້ວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍ Molybdenum Sputtering ໃນຮູບເງົາບາງຈຸລັງ photovoltaic ແສງຕາເວັນ
CIGS ແມ່ນປະເພດທີ່ສໍາຄັນຂອງຈຸລັງແສງຕາເວັນທີ່ໃຊ້ໃນການປ່ຽນແສງແດດເປັນພະລັງງານໄຟຟ້າ.CIGS ແມ່ນປະກອບດ້ວຍສີ່ອົງປະກອບ: ທອງແດງ (Cu), ອິນເດຍ (In), galium (Ga), ແລະເຊເລນຽມ (Se).ຊື່ເຕັມຂອງມັນແມ່ນທອງແດງ indium gallium selenium ຈຸລັງແສງຕາເວັນບາງ.CIGS ມີຄວາມໄດ້ປຽບຂອງຄວາມສາມາດໃນການດູດຊຶມແສງສະຫວ່າງທີ່ເຂັ້ມແຂງ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງການຜະລິດພະລັງງານທີ່ດີ, ປະສິດທິພາບການແປງສູງ, ເວລາການຜະລິດພະລັງງານໃນມື້ຍາວ, ຄວາມສາມາດໃນການຜະລິດພະລັງງານຂະຫນາດໃຫຍ່, ຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການຜະລິດຕ່ໍາ, ແລະໄລຍະເວລາການຟື້ນຕົວຂອງພະລັງງານສັ້ນ.
ເປົ້າໝາຍຂອງໂມລິບdenum ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນຖືກສີດພົ່ນເພື່ອສ້າງເປັນຊັ້ນ electrode ຂອງ CIGS ຫມໍ້ໄຟຟິມບາງໆ.Molybdenum ຕັ້ງຢູ່ດ້ານລຸ່ມຂອງຈຸລັງແສງຕາເວັນ.ໃນຖານະເປັນການຕິດຕໍ່ກັບຄືນໄປບ່ອນຂອງຈຸລັງແສງຕາເວັນ, ມັນມີບົດບາດສໍາຄັນໃນ nucleation, ການຂະຫຍາຍຕົວ, ແລະ morphology ຂອງໄປເຊຍກັນຮູບເງົາບາງໆ CIGS.
Molybdenum sputtering ເປົ້າຫມາຍສໍາລັບຫນ້າຈໍສໍາພັດ
Molybdenum niobium (MoNb) ເປົ້າຫມາຍຖືກນໍາໃຊ້ເປັນຊັ້ນນໍາ, ການປົກຫຸ້ມ, ແລະຕັນໃນໂທລະທັດ, ແທັບເລັດ, ໂທລະສັບສະຫຼາດ, ແລະອຸປະກອນມືຖືອື່ນໆໂດຍຜ່ານ sputtering coating.
| ຊື່ຜະລິດຕະພັນ | ວັດຖຸເປົ້າຫມາຍ Molybdenum |
| ວັດສະດຸ | ໂມ1 |
| ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະ | ປັບແຕ່ງ |
| ດ້ານ | ຜິວຫນັງສີດໍາ, ເປັນດ່າງລ້າງ, ຂັດ. |
| ເຕັກນິກ | ຂະບວນການ Sintering, ເຄື່ອງຈັກ |
| ຈຸດລະລາຍ | 2600℃ |
| ຄວາມຫນາແຫນ້ນ | 10.2g/ຊມ3 |
Wechat: 15138768150
WhatsApp: +86 15138745597
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
