ມີ beam ion ອາກາດທີ່ຮຸນແຮງເຂົ້າໄປໃນວັດສະດຸແຂງ, beam ion ກັບອະຕອມຂອງວັດສະດຸແຂງຫຼືໂມເລກຸນເຂົ້າໄປໃນພື້ນຜິວວັດສະດຸແຂງ, ປະກົດການນີ້ເອີ້ນວ່າ ion beam sputtering;ແລະໃນເວລາທີ່ວັດສະດຸແຂງ, ດ້ານຂອງວັດສະດຸແຂງ bounced ກັບຄືນໄປບ່ອນ, ຫຼືອອກຈາກວັດສະດຸແຂງກັບປະກົດການເຫຼົ່ານີ້ເອີ້ນວ່າກະແຈກກະຈາຍ;ມີອີກປະກົດການຫນຶ່ງແມ່ນວ່າຫຼັງຈາກ beam ion ກັບວັດສະດຸແຂງໂດຍວັດສະດຸແຂງແລະຫຼຸດຜ່ອນຄວາມຕ້ານທານຊ້າລົງ, ແລະໃນທີ່ສຸດກໍຢູ່ໃນວັດສະດຸແຂງ, ປະກົດການນີ້ເອີ້ນວ່າ implantation.
ເຕັກນິກການປູກຝັງ ion:
ແມ່ນປະເພດຂອງເຕັກໂນໂລຊີການດັດແປງພື້ນຜິວທີ່ພັດທະນາຢ່າງໄວວາແລະຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນໂລກໃນ 30 ປີທີ່ຜ່ານມາ.ຫຼັກການພື້ນຖານແມ່ນການນໍາໃຊ້ພະລັງງານຂອງເຫດການ beam ion ກັບຄໍາສັ່ງຂອງອຸປະກອນການ 100keV ກັບ beam ion ແລະວັດສະດຸຂອງປະລໍາມະນູຫຼືໂມເລກຸນຈະເປັນຊຸດຂອງປະຕິສໍາພັນທາງກາຍະພາບແລະເຄມີ, ເຫດການ ion ການສູນເສຍພະລັງງານຄ່ອຍໆ, ຢຸດສຸດທ້າຍໃນ. ວັດສະດຸ, ແລະເຮັດໃຫ້ໂຄງສ້າງແລະຄຸນສົມບັດຂອງອົງປະກອບຂອງຫນ້າດິນ, ການປ່ຽນແປງ.ໃນຄໍາສັ່ງທີ່ຈະເພີ່ມປະສິດທິພາບດ້ານຄຸນສົມບັດຂອງວັດສະດຸ, ຫຼືເພື່ອໃຫ້ໄດ້ຄຸນສົມບັດໃຫມ່ບາງຢ່າງ.ເຕັກໂນໂລຊີໃຫມ່ເນື່ອງຈາກວ່າຂໍ້ໄດ້ປຽບທີ່ເປັນເອກະລັກຂອງຕົນ, ໄດ້ຢູ່ໃນ doped semiconductor ອຸປະກອນການ, ໂລຫະ, ceramic, polymer, ການແກ້ໄຂພື້ນຜິວໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງ, ໄດ້ບັນລຸຜົນປະໂຫຍດທາງດ້ານເສດຖະກິດແລະສັງຄົມທີ່ຍິ່ງໃຫຍ່.
ການປູກຝັງ ion ເປັນເທກໂນໂລຍີ doping ທີ່ສໍາຄັນໃນເຕັກໂນໂລຢີເອເລັກໂຕຣນິກຈຸນລະພາກມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການເພີ່ມປະສິດທິພາບດ້ານຄຸນສົມບັດຂອງວັດສະດຸ.ເທກໂນໂລຍີ implantation ion ແມ່ນປະສິດທິພາບອຸນຫະພູມສູງຫຼາຍແລະການຕໍ່ຕ້ານການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ສານເຄມີຂອງວັດສະດຸ.ດັ່ງນັ້ນ, ພາກສ່ວນຕົ້ນຕໍຂອງຫ້ອງ ionization ແມ່ນເຮັດດ້ວຍວັດສະດຸ tungsten, molybdenum ຫຼື graphite.Gemei ປີຂອງການຄົ້ນຄວ້າອຸດສາຫະກໍາແລະການຜະລິດໂດຍ ion implantation ຂອງອຸປະກອນການ molybdenum tungsten, ຂະບວນການຜະລິດມີຄວາມຫມັ້ນຄົງແລະປະສົບການອຸດົມສົມບູນ.
ຜະລິດຕະພັນຮ້ອນສໍາລັບ Ion Implantation
