Có một chùm ion không khí nghiêm trọng đi vào vật liệu rắn, chùm ion đi vào nguyên tử hoặc phân tử vật liệu rắn vào bề mặt vật liệu rắn, hiện tượng này được gọi là sự phun chùm ion; và khi vật liệu rắn, bề mặt vật liệu rắn bị bật trở lại, hoặc ra khỏi vật liệu rắn, hiện tượng này được gọi là sự tán xạ; còn có một hiện tượng khác là sau khi chùm ion đi vào vật liệu rắn, điện trở của vật liệu rắn giảm dần xuống, và cuối cùng ở lại trong vật liệu rắn, hiện tượng này được gọi là sự cấy ion.
Kỹ thuật cấy ion:
Là một loại công nghệ biến đổi bề mặt vật liệu đã phát triển nhanh chóng và được sử dụng rộng rãi trên thế giới trong 30 năm qua. Nguyên lý cơ bản là sử dụng năng lượng của chùm ion chiếu tới vật liệu theo thứ tự 100keV tới chùm ion và vật liệu của các nguyên tử hoặc phân tử sẽ là một loạt các tương tác vật lý và hóa học, năng lượng ion chiếu tới mất dần, điểm dừng cuối cùng trong vật liệu và gây ra cấu trúc và tính chất của thành phần bề mặt vật liệu, thay đổi. Để tối ưu hóa các tính chất bề mặt của vật liệu hoặc để có được một số tính chất mới. Công nghệ mới vì những ưu điểm độc đáo của nó, đã được sử dụng rộng rãi trong vật liệu bán dẫn pha tạp, kim loại, gốm sứ, polyme, biến đổi bề mặt, đã đạt được lợi ích kinh tế và xã hội to lớn.
Cấy ion là một công nghệ pha tạp quan trọng trong công nghệ vi điện tử đóng vai trò then chốt trong việc tối ưu hóa các tính chất bề mặt của vật liệu. Công nghệ cấy ion có hiệu suất nhiệt độ rất cao và khả năng chống ăn mòn hóa học của vật liệu. Do đó, các bộ phận chính của buồng ion hóa được làm bằng vật liệu vonfram, molypden hoặc than chì. Gemei nhiều năm nghiên cứu và sản xuất trong ngành bằng cách cấy ion vật liệu vonfram molypden, quy trình sản xuất có kinh nghiệm ổn định và phong phú.
Sản phẩm Hot cho cấy ghép ion
