Có chùm ion không khí nghiêm trọng đi vào vật liệu rắn, chùm ion đi vào các nguyên tử hoặc phân tử vật liệu rắn vào bề mặt vật liệu rắn, hiện tượng này gọi là phún xạ chùm ion;và khi vật rắn, bề mặt vật rắn bật ngược trở lại, hoặc ra khỏi vật rắn tới những hiện tượng này gọi là tán xạ;Còn có một hiện tượng khác là sau khi chùm ion đi vào vật liệu rắn bằng vật liệu rắn và điện trở giảm dần xuống, cuối cùng vẫn ở lại trong vật liệu rắn, hiện tượng này gọi là cấy ion.
Kỹ thuật cấy ion:
Là một loại công nghệ biến đổi bề mặt vật liệu đã phát triển nhanh chóng và được sử dụng rộng rãi trên thế giới trong 30 năm qua.Nguyên tắc cơ bản là sử dụng năng lượng của chùm ion tới mức 100keV của vật liệu đối với chùm ion và vật liệu của các nguyên tử hoặc phân tử sẽ là một chuỗi các tương tác vật lý và hóa học, sự mất năng lượng của ion tới dần dần, điểm dừng cuối cùng trong vật liệu, đồng thời làm thay đổi cấu trúc và tính chất của thành phần bề mặt vật liệu.Để tối ưu hóa các tính chất bề mặt của vật liệu hoặc để thu được một số tính chất mới.Công nghệ mới vì những ưu điểm độc đáo của nó, đã được sử dụng rộng rãi trong vật liệu bán dẫn pha tạp, kim loại, gốm, polymer, biến đổi bề mặt và đã đạt được lợi ích kinh tế và xã hội to lớn.
Cấy ion là một công nghệ pha tạp quan trọng trong công nghệ vi điện tử đóng vai trò then chốt trong việc tối ưu hóa tính chất bề mặt của vật liệu.Công nghệ cấy ion có hiệu suất nhiệt độ rất cao và khả năng chống ăn mòn hóa học của vật liệu.Do đó, các bộ phận chính của buồng ion hóa được làm bằng vật liệu vonfram, molypden hoặc than chì.Gemei đã có nhiều năm nghiên cứu và sản xuất công nghiệp bằng cách cấy ion vật liệu molypden vonfram, quy trình sản xuất có kinh nghiệm ổn định và phong phú.
Sản phẩm hot để cấy ion
