Hai un feixe de ións de aire serio nun material sólido, o feixe de ións aos átomos ou moléculas de material sólido na superficie dun material sólido, este fenómeno chámase pulverización catódica por feixe de ións; e cando o material sólido rebota na superficie do material sólido ou sae do material sólido, este fenómeno chámase dispersión; hai outro fenómeno que é que despois do feixe de ións ao material sólido, o material sólido reduce lentamente a resistencia e finalmente permanece no material sólido, este fenómeno chámase implantación de ións.
Técnica de implantación de ións:
É un tipo de tecnoloxía de modificación da superficie dos materiais que se desenvolveu rapidamente e se empregou amplamente no mundo nos últimos 30 anos. O principio básico é usar a enerxía dun feixe de ións incidente da orde de 100 keV no material para converter os átomos ou moléculas nos feixes de ións, o que provocará unha serie de interaccións físicas e químicas. A perda de enerxía dos ións incidentes vaise producindo gradualmente, o que provocará que a estrutura e as propiedades da composición da superficie do material cambien. Co fin de optimizar as propiedades superficiais dos materiais ou obter novas propiedades, esta nova tecnoloxía, debido ás súas vantaxes únicas, utilizouse amplamente na modificación superficial de materiais semicondutores dopados, metal, cerámica e polímeros, o que acadou grandes beneficios económicos e sociais.
A implantación iónica como importante tecnoloxía de dopaxe na tecnoloxía microelectrónica xoga un papel fundamental na optimización das propiedades superficiais dos materiais. A tecnoloxía de implantación iónica ofrece un rendemento a temperaturas moi altas e unha gran resistencia á corrosión química do material. Polo tanto, as partes principais da cámara de ionización están feitas de materiais de tungsteno, molibdeno ou grafito. Tras anos de investigación industrial e produción mediante implantación iónica de material de tungsteno e molibdeno, o proceso de produción ten unha experiencia estable e rica.