Terdapat pancaran ion udara yang serius ke dalam bahan pepejal, pancaran ion ke atom atau molekul bahan pepejal ke permukaan bahan pepejal, fenomena ini dipanggil percikan pancaran ion; dan apabila bahan pepejal, permukaan bahan pepejal melantun semula, atau keluar dari bahan pepejal ke fenomena ini dipanggil penyebaran; terdapat fenomena lain ialah selepas pancaran ion ke bahan pepejal oleh bahan pepejal dan mengurangkan rintangan secara perlahan-lahan ke bawah, dan akhirnya kekal dalam bahan pepejal, fenomena ini dipanggil implantasi ion.
Teknik implantasi ion:
Merupakan sejenis teknologi pengubahsuaian permukaan bahan yang telah berkembang pesat dan digunakan secara meluas di dunia dalam tempoh 30 tahun yang lalu. Prinsip asasnya adalah untuk menggunakan tenaga pancaran ion yang mengenai bahan pada peringkat 100keV kepada pancaran ion dan bahan-bahan atom atau molekul akan menjadi satu siri interaksi fizikal dan kimia, kehilangan tenaga ion yang mengenai secara beransur-ansur, perhentian terakhir dalam bahan, dan menyebabkan struktur dan sifat komposisi permukaan bahan berubah. Untuk mengoptimumkan sifat permukaan bahan, atau untuk mendapatkan beberapa sifat baharu. Teknologi baharu ini kerana kelebihannya yang unik, telah digunakan secara meluas dalam pengubahsuaian permukaan bahan semikonduktor yang didop, logam, seramik, polimer, dan telah mencapai manfaat ekonomi dan sosial yang besar.
Implantasi ion sebagai teknologi doping penting dalam teknologi mikroelektronik memainkan peranan penting dalam mengoptimumkan sifat permukaan bahan. Teknologi implantasi ion mempunyai prestasi suhu yang sangat tinggi dan rintangan kakisan kimia bahan. Oleh itu, bahagian utama ruang pengionan diperbuat daripada bahan tungsten, molibdenum atau grafit. Gemei tahun penyelidikan industri dan pengeluaran bahan tungsten molibdenum melalui implantasi ion, proses pengeluaran mempunyai pengalaman yang stabil dan kaya.
Produk Terhangat untuk Implantasi Ion
