Iónový lúč silne preniká do pevného materiálu, pričom iónový lúč preniká do atómov alebo molekúl pevného materiálu a dochádza k jeho povrchu, čo sa nazýva rozprašovanie iónovým lúčom. Keď sa iónový lúč odrazí od pevného materiálu a jeho povrch sa od neho odrazí, tento jav sa nazýva rozptyl. Ďalším javom je, že po preniknutí iónového lúča do pevného materiálu sa jeho odpor postupne znižuje a nakoniec zostáva v pevnom materiáli. Tento jav sa nazýva implantácia iónov.
Technika iónovej implantácie:
Je to druh technológie modifikácie povrchu materiálov, ktorá sa za posledných 30 rokov rýchlo rozvinula a široko používa vo svete. Základným princípom je využiť energiu iónového lúča s energiou rádovo 100 keV dopadajúceho na materiál, aby iónový lúč a atómy alebo molekuly materiálu podstúpili sériu fyzikálnych a chemických interakcií. Dopadajúce ióny postupne strácajú energiu, čím sa zastavia v materiáli a zmenia štruktúra a vlastnosti povrchu materiálu. Vďaka svojim jedinečným výhodám sa táto nová technológia široko používa v dopovaných polovodičových materiáloch, kovoch, keramike a polyméroch a dosiahla veľké ekonomické a sociálne výhody.
Iónová implantácia ako dôležitá dopingová technológia v mikroelektronickej technológii zohráva kľúčovú úlohu pri optimalizácii povrchových vlastností materiálov. Technológia iónovej implantácie sa vyznačuje veľmi vysokou teplotnou odolnosťou a odolnosťou voči chemickej korózii. Preto sú hlavné časti ionizačnej komory vyrobené z volfrámu, molybdénu alebo grafitu. Spoločnosť Gemei má dlhoročné priemyselné výskumy a výrobu iónovej implantácie volfrámu a molybdénu, čo má za následok stabilný a bohatý výrobný proces.
Horúce produkty pre iónovú implantáciu
