Tantalum sputtering targets ត្រូវ​បាន​ប្រើ​នៅ​ក្នុង​ដំណើរ​ការ​នៃ​ការ​បំប្លែង​ទឹក​ចេញ​ជា​វិធី​សាស្រ្ដ​នៃ​ការ​ដាក់​ខ្សែភាពយន្ត​ស្តើង​នៃ​វត្ថុធាតុ​ផ្សេងៗ​ទៅ​លើ​ស្រទាប់​ខាងក្រោម។នៅក្នុងករណីនៃ tantalum sputtering គោលដៅ ពួកវាត្រូវបានប្រើដើម្បីដាក់ខ្សែភាពយន្តស្តើង tantalum ទៅលើផ្ទៃផ្សេងៗ ដូចជា semiconductor wafers ថ្នាំកូតអេក្រង់ និងសមាសធាតុអេឡិចត្រូនិចផ្សេងទៀត។កំឡុងពេលដំណើរការនៃការបញ្ចេញទឹករំអិល គោលដៅរបស់ tantalum sputtering ត្រូវបានបំផ្ទុះដោយអ៊ីយ៉ុងថាមពលខ្ពស់ ដែលបណ្តាលឱ្យអាតូម tantalum ត្រូវបានច្រានចេញពីគោលដៅ ហើយដាក់នៅលើស្រទាប់ខាងក្រោមក្នុងទម្រង់ជាខ្សែភាពយន្តស្តើង។ដំណើរការអនុញ្ញាតឱ្យមានការត្រួតពិនិត្យច្បាស់លាស់នៃកម្រាស់ខ្សែភាពយន្ត និងឯកសណ្ឋាន ដែលធ្វើឱ្យវាក្លាយជាវិធីសាស្រ្តដ៏សំខាន់សម្រាប់ការផលិតឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិក និងផលិតផលបច្ចេកវិទ្យាខ្ពស់ផ្សេងទៀត។Tantalum sputtering targets ត្រូវបានគេវាយតម្លៃចំពោះចំណុចរលាយខ្ពស់ ភាពអសកម្មគីមី និងភាពឆបគ្នាជាមួយនឹងសម្ភារៈស្រទាប់ខាងក្រោមជាច្រើន ដែលធ្វើឱ្យវាល្អសម្រាប់កម្មវិធីដែលទាមទារខ្សែភាពយន្តប្រើប្រាស់បានយូរ និងគុណភាពខ្ពស់។គោលដៅទាំងនេះត្រូវបានប្រើប្រាស់ជាទូទៅក្នុងការផលិត capacitors សៀគ្វីរួមបញ្ចូលគ្នា និងឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិកផ្សេងទៀត។