Obiettivo di sputtering di tantalio puro al 99,95%.

Breve descrizione:


  • Luogo d'origine:Henan, Cina
  • Marchio:Luoyang forgiato
  • Numero di modello:Ta1
  • Materiale:Tantalio
  • Superficie:lavaggio/lucidatura caustica
  • Dimensioni:vari
  • Densità:16,7 g/cm3
  • Purezza:>=99,95%
  • Condizione:ricottura/tempra/tempra sotto vuoto
  • Dettagli del prodotto

    Tag dei prodotti

    Il metodo di produzione dell'obiettivo di sputtering al tantalio

    Gli obiettivi di sputtering del tantalio vengono solitamente prodotti utilizzando processi di metallurgia delle polveri.

    In questo metodo, la polvere di tantalio viene compattata e sinterizzata per formare una piastra solida di tantalio.Le lastre sinterizzate vengono poi lavorate attraverso vari processi di formatura, come lavorazione meccanica o laminazione, per ottenere le dimensioni e la finitura superficiale desiderate.Il prodotto finale viene quindi pulito e ispezionato per garantire che soddisfi le specifiche richieste per l'applicazione di sputtering.Questo metodo di produzione garantisce che i target dello sputtering al tantalio abbiano la purezza, la densità e la microstruttura necessarie per ottenere prestazioni ottimali nei processi di deposizione di film sottili.

    L'impiego diBersaglio per sputtering di tantalio

    I bersagli per sputtering al tantalio vengono utilizzati nel processo di deposizione per sputtering, un metodo per depositare pellicole sottili di vari materiali su un substrato.Nel caso dei target di tantalio sputtering, vengono utilizzati per depositare pellicole sottili di tantalio su una varietà di superfici, come wafer semiconduttori, rivestimenti di display e altri componenti elettronici.Durante il processo di deposizione a spruzzo, il bersaglio di tantalio viene bombardato da ioni ad alta energia, provocando l'espulsione degli atomi di tantalio dal bersaglio e il deposito sul substrato sotto forma di una pellicola sottile.Il processo consente un controllo preciso dello spessore e dell'uniformità della pellicola, rendendolo un metodo importante per la produzione di dispositivi elettronici e altri prodotti ad alta tecnologia.I target di sputtering al tantalio sono apprezzati per il loro elevato punto di fusione, l'inerzia chimica e la compatibilità con una varietà di materiali di substrato, che li rendono ideali per applicazioni che richiedono pellicole durevoli e di alta qualità.Questi obiettivi sono comunemente utilizzati nella produzione di condensatori, circuiti integrati e altri dispositivi elettronici.

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