ٽينٽيلم اسپٽرنگ جا مقصد اسپٽر جمع ڪرڻ جي عمل ۾ استعمال ٿيندا آهن، مختلف مواد جي پتلي فلمن کي ذخيرو ڪرڻ جو هڪ طريقو هڪ ذيلي ذخيرو تي.tantalum sputtering ٽارگيٽ جي صورت ۾، اهي tantalum پتلي فلمن کي مختلف سطحن تي جمع ڪرڻ لاء استعمال ڪيا ويا آهن، جهڙوڪ سيمي ڪنڊڪٽر ويفرز، ڊسپلي ڪوٽنگ، ۽ ٻيا اليڪٽرانڪ اجزاء.اسپٽر جمع ڪرڻ جي عمل دوران، ٽينٽيلم اسپٽرنگ ٽارگيٽ تي تيز توانائي آئنز پاران بمباري ڪئي ويندي آهي، جنهن جي ڪري ٽانٽيلم ايٽمس ٽارگيٽ کان ٻاهر نڪرندا آهن ۽ هڪ پتلي فلم جي صورت ۾ سبسٽريٽ تي جمع ڪيا ويندا آهن.اهو عمل فلم جي ٿولهه ۽ هڪجهڙائي جي درست ڪنٽرول جي اجازت ڏئي ٿو، اهو اليڪٽرانڪ ڊوائيسز ۽ ٻين اعلي ٽيڪنالاجي شين جي پيداوار لاء هڪ اهم طريقو آهي.Tantalum sputtering ٽارگيٽ انهن جي اعلي پگھلڻ واري نقطي، ڪيميائي جڙت، ۽ مختلف قسم جي ذيلي مواد سان مطابقت لاء قابل قدر آهن، انهن کي پائيدار ۽ اعلي معيار جي فلمن جي ايپليڪيشنن لاء مثالي بڻائي ٿو.اهي مقصد عام طور تي ڪيپيسٽرز، انٽيگريڊ سرڪٽس ۽ ٻين اليڪٽرانڪ ڊوائيسز جي پيداوار ۾ استعمال ٿيندا آهن.