99,95% diana de tantal pur
Els objectius de tàntal es produeixen normalment mitjançant processos de metal·lúrgia de pols.
En aquest mètode, la pols de tàntal es compacta i sinteritza per formar una placa sòlida de tàntal.A continuació, les làmines sinteritzades es processen mitjançant diversos processos de conformació, com ara mecanització o laminació, per obtenir les dimensions i acabat superficial desitjats.A continuació, es neteja i s'inspecciona el producte final per assegurar-se que compleix les especificacions requerides per a l'aplicació de pulverització.Aquest mètode de producció garanteix que els objectius de tàntal tenen la puresa, la densitat i la microestructura necessàries per aconseguir un rendiment òptim en els processos de deposició de pel·lícules primes.
Els objectius de tàntal s'utilitzen en el procés de deposició sputter, un mètode per dipositar pel·lícules primes de diversos materials sobre un substrat.En el cas de les dianes de tàntal, s'utilitzen per dipositar pel·lícules primes de tàntal sobre una varietat de superfícies, com ara hòsties de semiconductors, recobriments de pantalla i altres components electrònics.Durant el procés de deposició de tàntal, l'objectiu de tàntal és bombardejat per ions d'alta energia, fent que els àtoms de tàntal siguin expulsats de l'objectiu i es dipositen al substrat en forma d'una pel·lícula fina.El procés permet un control precís del gruix i la uniformitat de la pel·lícula, el que el converteix en un mètode important per a la fabricació de dispositius electrònics i altres productes d'alta tecnologia.Els objectius de tàntal es valoren pel seu alt punt de fusió, inercia química i compatibilitat amb una varietat de materials de substrat, cosa que els fa ideals per a aplicacions que requereixen pel·lícules duradores i d'alta qualitat.Aquests objectius s'utilitzen habitualment en la producció de condensadors, circuits integrats i altres dispositius electrònics.
Wechat: 15138768150
WhatsApp: +86 15138745597
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
